Совместная разработка IBM и AMD позволит создавать более дешевые и одновременно более продуктивные процессоры.
Новая технологическая разработка IBM и Advanced Micro Devices носит название Dual Stress Liners (DSL). По заявлениям компаний, она позволяет повысить быстродействие за счет более правильного расположения полупроводниковых элементов в процессоре. Утверждается, что продуктивность полупроводниковых элементов при использовании DSL увеличивается на 24%, при этом количество чипов, которые можно "нарезать" с одной подложки, не уменьшается. Следовательно, утверждают разработчики, эта технология будет сравнительно недорогой в использовании.
Массовое применение DSL найдет в процессорах компаний, построенных по технологической норме 90 нм, в начале следующего года.
Intel, кстати, тоже не отстает от своих конкурентов. Компания объявляет, что ее собственные разработки в этой области позволяют даже несколько опередить конкурентов и добиться прироста производительности в 30%. Более подробно познакомить общественность со своими наработками в этом деле обе стороны обещают на мероприятии International Electron Devices Meeting, которое состоится на этой неделе.
digital times
