Компьюлента. 17 сентября 2003 года, 12:21
На очередном форуме Intel для разработчиков, проходящем в калифорнийском Сан-Хосе, президент компании Пол Отеллини рассказал о планах процессорного гиганта по дальнейшей миниатюризации элементов интегральных схем. Уже в конце нынешнего года Intel планирует осуществить переход со 130- на 90-нанометровую технологию производства процессоров. Более тонкий технологический процесс будет использоваться при производстве новых чипов серии Pentium 4 (ядро Prescott) и Pentium M (ядро Dothan).
Как выглядят кристаллы новых процессоров, можно увидеть на иллюстрации. Кристалл процессора на ядре Prescott имеет площадь 112 мм² и насчитывает 125 млн. транзисторов. Тепловыделение процессоров на новом ядре будет большим - порядка 100 Вт. Ядро Dothan имеет площадь 87 мм², а число транзисторов в нем пока не объявлено. В первой модификации Pentium M на ядре Banias насчитывалось 77 млн. транзисторов.
Следующий этап миниатюризации - переход на 65-нанометровую технологию - компания наметила на 2005 год. Примерно в эти сроки должен начаться выпуск Pentium 4 на ядре Tejas, и вполне вероятно, эти чипы будут выпускаться с использованием нового технологического процесса. Опытные образцы микросхем с размером элементов порядка 65 нм уже существуют, и Пол Отеллини продемонстрировал пластину с опытными процессорными кристаллами, созданными по такой технологии. Миниатюризация элементов микросхем продолжится и далее: в ходе своего выступления Отеллини продемонстрировал фотографии экспериментальных транзисторов, изготовленных по 45-, 32- и даже 22-нанометровой технологии.
Ядра Prescott и Dothan
