Компания Intel, являющаяся одним из мировых лидеров по производству сложных микросхем, объявила, что не намерена переходить на использование нового литографического оборудования с длиной волны излучения 157 нм. Вместо этого процессорный гигант постарается выжать все возможное из уже имеющихся в его распоряжении литографических систем с длиной волны 193 нм.

Как известно, литография является основным техпроцессом в производстве интегральных схем. Постоянная миниатюризация элементов ИС требует неуклонного сокращения длины волны излучения, использующегося для печати микросхем. В большинстве современных микросхем размеры элементов составляют 130 нм, но все большее число производителей переходят на 90-нанометровый процесс. Вполне очевидно, что размеры элементов уже достаточно серьезно уступают длине волны излучения.

Благодаря использованию ряда специальных методов и технологий оборудование с длиной волны 193 нм можно использовать при производстве современных микросхем. Однако дальнейшая миниатюризация потребует перехода на излучение с меньшей длиной волны. В настоящее время следующим этапом является показатель 157 нм.

В Intel 157-нанометровую литографию считают тупиковой ветвью развития. Она дает совсем небольшое преимущество перед литографическими системами с длиной волны 193 нм. По этой причине в Intel планируют перейти на литографию с использованием вакуумного ультрафиолетового излучения (ВУФ). Это позволит примерно в десять раз уменьшить длину волны и достичь невиданных уровней миниатюризации.

В прошлом году Intel подписала контракт на поставку пилотной линии ВУФ-литографии с голландской компанией ASML. Эта линия должна вступить в строй в 2005 г. и выпускать микросхемы по 45-нанометровой технологии на базе кремниевых пластин с диаметром 300 мм. Конструкция системы ВУФ-литографии будет базироваться на уже использующейся платформе TWINSCAN, однако из-за необходимости использования вакуума многие системы, в том числе, оптическая, будут существенным образом переработаны.

ASML является главным мировым поставщиком литографического оборудования. Недавно компания начала поставки 157-нанометрового оборудования, от которого отказалась Intel. В ASML, впрочем, полагают, что это оборудование будут покупать другие, менее привередливые компании, такие как IBM.