Уникальные оптоэлектрические свойства кристаллов титаната бария (BaTiO₃) давно вдохновляют материаловедов и создателей электронной техники. Однако для создания микрочипов из этого материала требуется технология выращивания тонких монокристаллических пленок. Они формируются быстрее, чем обычные кристаллы, однако до недавнего времени наладить "поточное производство" таких изделий не удавалось. Для создания электронной техники требуются пленки определенной толщины, а задать такие точные параметры при выращивания кристалла практически невозможно.

В результате целого ряда длительных экспериментов специалисты из Колумбийского университета в Нью-Йорке, Университета штата Нью-Йорк в Олбани и университета имени Джорджа Вашингтона в Вашингтоне, округ Колумбия, все же сумели сформировать на основе монокристаллической подложки из титаната бария пленки толщиной от 0,5 до 10 микрометров. Ученым удалось внедрить в подложку высокоэнергетические ионы, а затем "подрегулировать" толщину кристалла за счет его термической обработки и травления специальными химическими веществами. В своей работе ученые воспользовались микроскопом атомных сил (Atomic Force Microscope), позволившим исследовать качество поверхностей образцов и доменную структуру кристалла.

По мнению ученых, новая технология позволит создать принципиально новую электронную технику, и прежде всего, многофункциональные микроволновые и оптические устройства, микросхемы памяти и высокоемкие наноконденсаторы.